NVIDIA wdroży węzeł EUV 7 nm dla swoich układów GPU 2020



NVIDIA will implement the 7 nanometer EUV (extreme ultraviolet) lithography to build its future generation of GPUs slated for 2020, according to Japanese publication MyNavi.jp. The GPU giant could be among the first customers besides IBM, to contract Samsung for 7 nm EUV mass-production of GPUs. IBM will use the Korean semiconductor giant for manufacturing Z-series processors and FPGAs. Samsung announced in October 2018 that it will begin risk-production on its 7 nm EUV node in early-2019.

Wcześniejszy raport z 2018 r. Przewidywał również, że NVIDIA wdraża węzeł TSMC 7 nm DUV (głębokie ultrafiolet) dla swojego układu GPU 2019. W związku z wiadomościami o firmie, która obecnie współpracuje z Samsungiem nad EUV 7 nm na 2020 r., Wydaje się to mniej prawdopodobne. Możliwe, że NVIDIA w jakiś sposób podzieli linię GPU nowej generacji na TSMC 7 nm DUV i Samsung 7 nm EUV, przy czym ta ostatnia będzie używana do układów o większej liczbie tranzystorów, wykorzystując wyższą możliwą do dostarczenia gęstość tranzystora.
Source: MyNavi.jp